所谓靶材，是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在恰当工艺条件下溅射在基板上形成各种功用薄膜的溅射源。简略来说，就是高速荷能粒子轰击的政策材料。依据原料可分为金属靶材、合金靶材以及陶瓷靶材，其中钛靶材是制备PVD涂层常用的靶材之一，在磁控溅射技术中有广泛使用。因此，钛靶材的质量很重要，好的钛靶材才干制备合格的PVD涂层。下面，小编为咱们同享一下影响钛靶原料量因素有哪些吧。

一、纯度

钛靶材的纯度对溅射涂层的功用影响很大。钛靶材的纯度越高，溅射钛薄膜的中的杂质元素粒子越少，导致PVD涂层功用越好，包括耐蚀性及电学、光学功用越好。不过在实践使用中，不同用途的钛靶材对纯度要求不一样。靶材作为溅射中的阴极源，资猜中的杂质元素和气孔搀杂是沉积薄膜的首要污染源。气孔搀杂会在铸锭无损探伤的进程中根本去除，没有去除的气孔搀杂在溅射的进程中会发生放电现象，进而影响薄膜的质量；而杂质元素含量只能在全元素剖析检验成果中体现，杂质总含量越低，钛靶材纯度就越高。

二、均匀晶粒标准

一般钛靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级，细微标准晶粒靶的溅射速率要比粗晶粒靶快，在溅射面晶粒标准相差较小的靶，溅射沉积薄膜的厚度散布也较均匀。研讨发现，若将钛靶的晶粒标准控制在100μm以下，且晶粒大小的改变保持在20%以内，其溅射所得薄膜的质量可得到大幅度改善。

三、结晶取向

金属钛是密排六方结构，因为在溅射时钛靶材原子简单沿着原子六方严密摆放方向优先溅射出来，因此，为达到较高的溅射速率，可通过改变靶材结晶结构的方法来增加溅射速率。钛靶材的结晶方向对对溅射膜层的厚度均匀性影响也较大。

四、结构均匀性

结构均匀性也是调查靶原料量的重要目标之一。关于钛靶材不仅要求在靶材的溅射平面，并且在溅射面的法向方向成分、晶粒取向和均匀晶粒度均匀性。只要这样钛靶材在使用寿命内，在同一时间内能够得到厚度均匀、质量牢靠的、晶粒大小共同的钛薄膜。

五、几何形状与标准

首要体现在加工精度和加工质量方面，如加工标准、外表平整度、粗糙度等。如设备孔视点差错过大，无法正确设备；厚度标准偏小会影响靶材的使用寿命；密封面和密封槽标准过于粗糙会导致靶材设备后真空出现问题，严重的导致漏水；靶材溅射面粗糙化处理可使靶材外表布满丰厚的凸起尖|端，在尖|端效应的作用下，这些凸起尖|端的电势将大大提高，然后击穿介质放电，但是过大的凸起关于溅射的质量和稳定性是不利的。