DLC类金刚石涂层是一种亚稳态的非晶碳莫，兼具金刚石和石墨的优质特性，具有较好的硬度、杰出的热传导性、低摩擦系数、优异的电绝缘性能、高化学稳定性等应用长处，在机械制造、生物医学、电子设备等范畴有着广泛应用。DLC涂层首要选用物理气相堆积法、化学气相堆积法来制备，经过专门的堆积设备进行生产制造。

一、加热与水冷体系

加热体系与水冷体系均匀分布于堆积室四周，加热温度、速度及水量可控可调，并安装有相应的报警装置；旋转体系坐落堆积室底部，经过绝缘陶瓷进行绝缘，旋转速度可控可调。

二、真空体系

真空体系由机械泵、罗茨泵、扩散泵及相应的操控阀门、测量元件组成，能够依据工艺需求自由地进行高真空和低真空的切换。

三、供气体系

供气体系置于堆积室顶部，气体品种包含H2、N2、Ar、CHa、C2H2、含Si气体，同时堆积室顶部预留两路接口，便利以后其他品种气体的添加。

含Si的过渡层是公认的PCVD办法中有利于增强DLC涂层与基体结合力的一种涂层，为了取得Si，通常选用SiH4作为质料气，但是SiH4危险性较高，所以在此选用了危险性较低的含Si气体作为Si源。

四、堆积靶材体系

设备具有PVD和PCVD两个堆积单元，PCVD单元首要意图是用于类金刚石(DLC)的堆积，选用的电源为脉冲调制电源，各项参数接连可调，经过对参数的调整，能够堆积不同硬度和厚度的DLC涂层，同时，经过对工件装卡方式的调整，还能够在复杂工件上进行涂层；PVD单元的意图首要有：①针对不同的基体经过更换不同的靶材能够开发不同的粘结层或含有不同品种元素的金属掺杂DLC涂层；②经过更换靶材，能够形成多种“功用层+DLC”的用于不同范畴的复合涂层。

五、电气操控体系

电气操控体系选用PLC全主动操控，包含上位机、PLC可编程操控器、适配转换器、操控电源、真空操控电源及测量体系、送气操控电源、温控体系、冷却水检测操控电源等。开炉前，在工艺编辑界面编辑涂层工艺并存档，在开炉时调用所需工艺，设备将主动运转，并实时进行检测监控。若有问题设备将主动报警，依据警报等级设备选择“等候”状况或直接停机，待警报免除后继续运转。每炉的运转记录及报警记录都主动存储于电脑中便利查阅。依据需求，设备可改为全手动运转，涂层过程中在主操作界面调整各项涂层参数进行操控。